簡要描述:G+F傳感器基底用于保持敏感柵、引線的幾何形狀和相對位置,蓋片既保持敏感柵和引線的形狀和相對位置,還可保護(hù)敏感柵?;椎娜L稱為基底長,其寬度稱為基底寬。 基底材料有紙基和膠基。膠基由環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂和聚酰亞胺等制成膠膜,厚度約0.03~0.05mm 用于將敏感柵固定于基底上,并將蓋片與基底粘貼在一起。使用金屬應(yīng)變片時,G+F傳感器也需用粘結(jié)劑將應(yīng)變片基底粘貼在構(gòu)件表面某個方向和位置上。以便將
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品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,電子,冶金,航天,制藥 |
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G+F傳感器基底用于保持敏感柵、引線的幾何形狀和相對位置,蓋片既保持敏感柵和引線的形狀和相對位置,還可保護(hù)敏感柵?;椎娜L稱為基底長,其寬度稱為基底寬。 基底材料有紙基和膠基。膠基由環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂和聚酰亞胺等制成膠膜,厚度約0.03~0.05mm 用于將敏感柵固定于基底上,并將蓋片與基底粘貼在一起。使用金屬應(yīng)變片時,G+F傳感器也需用粘結(jié)劑將應(yīng)變片基底粘貼在構(gòu)件表面某個方向和位置上。以便將構(gòu)件受力后的表面應(yīng)變傳遞給應(yīng)變計的基底和敏感柵。
G+F傳感器應(yīng)變片粘貼在被測試件上,當(dāng)溫度恒定時,其加載特性與卸載特性不重合,即為機(jī)械滯后。 產(chǎn)生原因:應(yīng)變片在承受機(jī)械應(yīng)變后,其內(nèi)部會產(chǎn)生殘余變形,使敏感柵電阻發(fā)生少量不可逆變化;在制造或粘貼應(yīng)變片時,如果敏感柵受到不適當(dāng)?shù)淖冃位蛘哒辰Y(jié)劑固化不充分。 機(jī)械滯后值還與應(yīng)變片所承受的應(yīng)變量有關(guān),G+F傳感器加載時的機(jī)械應(yīng)變愈大,卸載時的滯后也愈大。所以,通常在實驗之前應(yīng)將試件預(yù)先加、卸載若干次,以減少因機(jī)械滯后所產(chǎn)生的實驗誤差。
G+F傳感器的變換原理是利用金屬導(dǎo)體在交流磁場中的電渦流效應(yīng)。若一金屬板置于一只線圈的附近,它們之間相互的間距為δ,當(dāng)線圈輸入一交變電流i 時,便產(chǎn)生交變磁通量Φ,金屬板在此交變磁場中會產(chǎn)生感應(yīng)電流i1,這種電流在金屬體內(nèi)是閉合的,所以稱之為電渦流或渦流。渦流的大小與金屬板的電阻率ρ、磁導(dǎo)率μ、厚度h、金屬板與線圈的距離δ、激勵電流角頻率ω等參數(shù)有關(guān)。G+F傳感器若固定某些參數(shù),就可根據(jù)渦流的變化測量另一個參數(shù)。
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